用于貴金屬薄膜涂層設備MSP-1S的特點

發(fā)布日期：2023-03-20      瀏覽次數(shù)：418

用于貴金屬薄膜涂層設備MSP-1S的特點

真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應沉積鍍膜,實際上,這種工藝可以沉積任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜.此外,該工藝也特別適合用于多層膜結構的沉積,包括了光學設計、彩色膜、耐磨涂層、納米層壓板、超晶格鍍膜、絕緣膜等.早在1970年,已經(jīng)有了高質(zhì)量的光學薄膜沉積案例,開發(fā)了多種光學膜層材料.這些材料包括有透明導電材料、半導體、聚合物、氧化物、碳化物以及氮化物等,至于氟化物則多是用在蒸發(fā)鍍膜等工藝當中。



該設備專用于貴金屬薄膜涂層，用于SEM觀察。 該裝置進行貴金屬涂層，以防止SEM樣品充電并提高二次電子生成的效率。 除了使用磁控管靶電極進行低壓放電外，樣品臺是浮動的，減少了電子束流入造成的樣品損壞。 操作簡單，只需按一下按鈕，就沒有技巧。 它很小，不占用太多空間。 它在桌子的角落很有用。

產(chǎn)品特點

★MSP-1S是掃描型電子顯微鏡（SEM）觀察用離子濺射成膜裝置。

★目標是標準裝備金鈀（Au-Pd）。可選擇金（Au）、鉑（Pt）、鉑鈀（Pt-Pd）。

★樣品臺采用減輕離子損傷的浮動方式。

★低電壓涂層，即使是敏感的樣品也幾乎沒有樣品損傷。

★用1個按鈕全自動進行排氣、涂層、泄漏。

★排氣系統(tǒng)內(nèi)置RP10升/min。