離子濺射儀MSP-1S的鍍膜原理分析
離子濺射儀的鍍膜的主要方式有兩種:熱蒸發(fā)和離子濺射(包括直流濺射和磁控濺射)。
熱蒸發(fā)是通過對(duì)鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積到樣品表面并形成膜。
離子濺射是將靶材、樣品均置于真空室中;首先進(jìn)行抽真空,實(shí)現(xiàn)輝光放電所需的低氣壓環(huán)境;靶材接高壓,為負(fù)極;樣品臺(tái)接地,為正極;靶材與樣品臺(tái)之間形成高壓電場,電離氣體;氣體電離后,正離子飛向負(fù)極,轟擊靶材,靶材原子被濺射飛出,沉積到樣品上形成導(dǎo)電膜。
該設(shè)備專用于貴金屬薄膜涂層,用于SEM觀察。 該裝置進(jìn)行貴金屬涂層,以防止SEM樣品充電并提高二次電子生成的效率。 除了使用磁控管靶電極進(jìn)行低壓放電外,樣品臺(tái)是浮動(dòng)的,減少了電子束流入造成的樣品損壞。 操作簡單,只需按一下按鈕,就沒有技巧。 它很小,不占用太多空間。 它在桌子的角落很有用。
用途
用于 SEM 樣品的金屬涂層設(shè)備。
當(dāng)您下第一個(gè)訂單時(shí),您將收到您選擇的一個(gè)貴金屬目標(biāo)。
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