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orbray光學(xué)干涉式內(nèi)周面精密測(cè)量機(jī)測(cè)量原理分析

  • 發(fā)布日期:2023-08-21      瀏覽次數(shù):408
    • orbray光學(xué)干涉式內(nèi)周面精密測(cè)量機(jī)測(cè)量原理分析

      無(wú)刷電機(jī)

      1. 寬帶光源 (SLD*) 的輸出光(近紅外光)是多種波長(zhǎng)的光
        *SLD:超級(jí)發(fā)光二極管寬帶和相位對(duì)準(zhǔn)光源

      2. 由于作為基準(zhǔn)面的石英管表面反射的光與工件內(nèi)周面反射的光之間的光路長(zhǎng)度不同而發(fā)生光學(xué)干涉。電機(jī)旋轉(zhuǎn)的掃描鏡會(huì)受到旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)振動(dòng)的影響,但可以通過(guò)使用固定的石英管作為參考來(lái)消除振動(dòng)的影響。

      3. 通過(guò)光譜儀將干涉光分成波長(zhǎng),得到各波長(zhǎng)的光強(qiáng)度(光譜干涉法)

      4. 獲得的波形通過(guò)專用軟件進(jìn)行分析處理,對(duì)尺寸、形狀、標(biāo)準(zhǔn)等進(jìn)行測(cè)量并進(jìn)行3D顯示。


      光學(xué)干涉原理

      光學(xué)干涉原理

      光具有波動(dòng)性。作為波的一種特性,相同波長(zhǎng)的波重疊會(huì)產(chǎn)生新的波形。這稱為干擾。根據(jù)波重疊的時(shí)間(相位),波相互增強(qiáng),新波的大?。ㄕ穹┰黾樱蛘呦喾?,它們相互削弱并減小。

      由于光的波動(dòng)性,光的干涉=光學(xué)干涉。

      1. 峰峰、谷谷重疊=同相→干涉光最大

      2. 峰谷重疊、谷峰重疊=反相→干涉光最小

      3. 不同波長(zhǎng)的光重疊→互不干擾

      光譜干涉測(cè)量原理

      光學(xué)干涉法原理

      在使用光學(xué)干涉的測(cè)量?jī)x器中,參考表面反射的光和被測(cè)量物體表面反射的光相互干涉。光譜干涉測(cè)量法中使用的寬帶光源(SLD)包含多種波長(zhǎng)的光,各波長(zhǎng)的反射光會(huì)產(chǎn)生干涉。此時(shí),當(dāng)光路距離(基準(zhǔn)面與被測(cè)物體之間的往復(fù)距離)為波長(zhǎng)的整數(shù)倍(波數(shù)為整數(shù))時(shí),該波長(zhǎng)處的干涉光最大。由于SLD光的波長(zhǎng)具有寬度,因此出現(xiàn)干涉光最大的一些波長(zhǎng)。當(dāng)測(cè)量距離改變時(shí),使干涉光大化的波長(zhǎng)組合發(fā)生變化。
      當(dāng)用分光鏡將得到的干涉光按波長(zhǎng)分離時(shí),最大波長(zhǎng)亮,最小波長(zhǎng)暗,出現(xiàn)干涉條紋(亮和暗)。在光譜干涉法中,通過(guò)分析干涉條紋的光強(qiáng)來(lái)測(cè)量參考平面與被測(cè)物體之間的距離。

      目前,航空航天設(shè)備用燃油噴嘴、醫(yī)療設(shè)備用中空零件、分析儀用精密噴嘴、流體軸承等精密孔加工零件得到廣泛應(yīng)用,評(píng)價(jià)其內(nèi)周面的重要性正在迅速增加。
      對(duì)于內(nèi)徑較大的零件,可以使用內(nèi)徑測(cè)量機(jī)、圓度測(cè)量機(jī)、粗糙度/形狀測(cè)量機(jī)進(jìn)行測(cè)量和評(píng)價(jià),但對(duì)于氣孔,不要將零件分成兩半。無(wú)法測(cè)量。
      我們開發(fā)了內(nèi)表面測(cè)量機(jī)NMH-02,它利用近紅外光的光學(xué)干涉,實(shí)現(xiàn)了“以前看不到的毛孔內(nèi)表面的可視化"。
      配備我們最小的 φ0.9mm 電機(jī)、采用我們的透光參考管方法的特殊探頭以及我們的傾斜校正計(jì)算算法,我們實(shí)現(xiàn)了以下目標(biāo):①最小測(cè)量?jī)?nèi)徑 φ1.1mm 同時(shí)形狀測(cè)量(3 ) 重復(fù)測(cè)量精度 σ = 0.2 μm (4) 實(shí)現(xiàn)免設(shè)置測(cè)量的新概念測(cè)量機(jī)??梢哉f(shuō),這是我們公司有的產(chǎn)品,擁有超小直徑電機(jī)技術(shù)和光通信技術(shù)。
      除了能夠觀察和測(cè)量孔的內(nèi)周表面之外,還可以同時(shí)測(cè)量以前必須使用專用測(cè)量?jī)x器單獨(dú)測(cè)量的內(nèi)徑、圓度、粗糙度和形狀。測(cè)量時(shí),測(cè)量時(shí)間可從約30分鐘/工大幅縮短至約30秒/工,極大有助于客戶測(cè)量吞吐量的提高。

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