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日本excimer準(zhǔn)分子光學(xué)處理系統(tǒng)E172 -70 光學(xué)測(cè)量?jī)x

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更新日期:2024-03-23

簡(jiǎn)要描述:

日本excimer準(zhǔn)分子光學(xué)處理系統(tǒng)E172 -70
使用準(zhǔn)分子紫外光源的光學(xué)表面處理可以對(duì)薄膜材料等易受熱影響的物體進(jìn)行低溫表面處理,因?yàn)橛捎诠庠吹奶匦?,被照射物體的溫度不易升高。 此外,光化學(xué)反應(yīng)不太可能損壞工件。

日本excimer準(zhǔn)分子光學(xué)處理系統(tǒng)E172 -70 光學(xué)測(cè)量?jī)x
品牌其他品牌產(chǎn)品種類臺(tái)式
數(shù)顯功能溫控功能
產(chǎn)地進(jìn)口

日本excimer準(zhǔn)分子光學(xué)處理系統(tǒng)E172 -70

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特征

  • 節(jié)省空間的臺(tái)式優(yōu)化

  • 快速處理時(shí)間

  • 僅AC100V電源

  • 配備定時(shí)器設(shè)置處理時(shí)間

  • 配備門聯(lián)鎖

  • 配備臭氧處理裝置

  • 無(wú)汞燈

  • 內(nèi)置高度調(diào)節(jié)平臺(tái)

高性能,簡(jiǎn)單的基本設(shè)計(jì)。

使用準(zhǔn)分子紫外光源的光學(xué)表面處理可以對(duì)薄膜材料等易受熱影響的物體進(jìn)行低溫表面處理,因?yàn)橛捎诠庠吹奶匦裕徽丈湮矬w的溫度不易升高。 此外,光化學(xué)反應(yīng)不太可能損壞工件。

應(yīng)用示例

  • 潤(rùn)濕性、親水性、親和力改善

  • 提高接合表面的附著力

  • 表面改性

  • 有機(jī)物分解、清洗

日本excimer準(zhǔn)分子光學(xué)處理系統(tǒng)E172 -70

基本規(guī)格


產(chǎn)品名稱準(zhǔn)分子紫外光處理機(jī)臺(tái)式實(shí)驗(yàn)室規(guī)格
型號(hào)E172-70
波長(zhǎng)172納米
光源艾西米燈 Φ18 x 120 mm
初始照度20mW/cm2以上
連續(xù)照明操作10分鐘內(nèi)(由于重量輕,風(fēng)冷設(shè)計(jì)?。?/span>
外部尺寸195(寬)× 380(深) x480(高)毫米※
效用電源 AC100V 50/60Hz 2A
定期更換零件廢氣臭氧分解裝置建議1年或酌情更換
定期檢查高壓電源、光源等 5年或視情況而定




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